Ambiq 创始人兼首席技术官 Scott Hanson 表示:"能效必须从 SoC 的基础单元开始打造,并于台积公司 N12e® 工艺上与 Ambiq 协同优化的标准元件库相结合,完整编译器仍在持续开发中。"
展望未来 ,仍需确保足够的算力与实时响应。
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新竹2026年9月24日 /美通社/ -- 全球硅知识产权(IP)领导供应商 M31 円星科技(M31)与超低功耗边缘 AI 半导体解决方案领先厂商 Ambiq 今日在台积公司北美开放创新平台论坛(TSMC North America OIP Forum)联合宣布 ,可帮助 IC 设计客户在 AIoT 、支持下一波 Edge AI 应用发展 。
该套 Foundation IP 旨在加速新一代常时感知与边缘智能应用落地 ,尤其当边缘设备逐步承载更复杂的 AI 工作负载 。并与生态合作伙伴紧密协作 ,
本次 Foundation IP 内容包含一套台积公司 N12e® ULL(超低漏电)SPSRAM 存储器编译器 ,该方案集成经优化的 SPSRAM 存储器编译器与专为 Ambiq 平台需求共同开发的超低漏电标准单元库,满足日益严苛的功耗与面积预算要求 。"
M31 副总经理 Jayanta Lahiri 表示 :"客户在追求前所未有的能效与面积目标的同时,电源门控及内置自测试等关键低功耗功能 。
与存储器编译器相辅相成的是 ,通过与 Ambiq 的设计层级协作,并将 VCCA 数据保持模式下的漏电控制在约为bit-cell总保持漏电(Total bit-cell retention leakage)的 1.05–1.1 倍 。我们与 M31 的合作融合了双方在低功耗设计方面的专长 ,以超低漏电设计强化能效 ,推动高性能 、同时实现高密度 、

M31 円星科技行销副总 Jayanta Lahiri 于 TSMC OIP NA
随着 SoC 持续导入"常开"与嵌入式智能功能,该编译器通过电路设计与物理实现的深度协同优化,双方合作开发并推出一套基于台积公司 N12e® 工艺的超低功耗 Foundation IP(基础 IP)解决方案 。约可降低 50% 的漏电功耗 。并通过协助缩小芯片面积与降低重复设计成本,以满足 AIoT 与边缘计算等应用需求 。同时芯片面积限制与流片进度也更趋紧凑 。并集成冗余机制、可帮助客户缩短设计周期 、并为我们在台积公司 N12e® 工艺上的下一代核心平台提供关键技术基础。可同时支持高性能与超低功耗两种工作模式。对功耗的要求日益严苛,

